첨단 계측 시스템, 다양한 문제 해결

[산업일보]
KLA-Tencor Corporation은 Archer™ 500LCM과 SpectraFilm™ LD10이라는 첨단 계측 시스템 2종을 출시했다.

이들 제품은 16nm 이하급 IC의 개발과 생산을 지원한다. Archer 500LCM 오버레이 계측 시스템은 생산 과정의 전 단계에 걸쳐 정확한 오버레이 오류 피드백을 제공함으로써 칩메이커가 다중 패터닝, 스페이서 피치 스플리팅 등의 혁신적인 패터닝 기법을 적용할 때 발생하는 오버레이 문제를 해결하는 데 도움을 준다.

SpectraFilm LD10 필름 계측 시스템은 높은 신뢰성과 정밀한 필름 두께 및 스트레스 계측을 통해 FinFET, 3D NAND 등 다양한 첨단 디바이스의 제조에 사용되는 필름 및 필름 스택의 검증과 모니터링을 지원한다. 이들 신제품은 KLA-Tencor의 고유한 5D™ 패터닝 제어 솔루션을 구성하는 핵심 제품이다. 5D 패터닝 제어 솔루션은 전체 공정을 특성화하고 모니터링해 최적의 패터닝 결과를 이끌어내는 솔루션이다.

KLA-Tencor의 Parametric Solutions Group 부사장인 아흐마드 칸(Ahmad Khan)은 "비파괴 광학 계측 업계를 대표하는 업체로서 우리는 고객과의 긴밀한 협력을 통해 패턴 오버레이, 임계 치수, 필름 품질을 최적하는 데 있어서 나타나는 문제를 파악하고 있다"며, "고객들은 파운드리, 논리 소자, 메모리 등 다양한 분야에 걸쳐 생산 공정에 적용 가능하고, 복잡한 공정 문제를 분석하는 데 필요한 데이터를 생성할 수 있는 계측 시스템을 필요로 한다. 당사의 새로운 Archer 500LCM 및 SpectraFilm LD10 플랫폼과 같은 다기능 계측 시스템은 다양한 응용 분야에 걸쳐 계측의 유연성을 높이는 다양한 혁신 기능을 구현한다. 따라서 고객이 현재 노드 수율을 높이고 다음 노드 기술을 연구하는 데 도움을 준다"고 말했다.

Archer 500LCM 오버레이 계측 시스템은 이미징 기술과 고유한 레이저 기반 산란 측정법 계측 기술을 모두 활용해 다양한 계측 옵션을 제공하는 동시에 인-다이, 스몰 피치 또는 멀티레이어 타깃과 같은 오버레이 계측 타깃 디자인을 폭넓게 지원한다. 이러한 유연성 덕분에 정확한 오버레이 오류 데이터를 경제적으로 생성할 수 있으며, 생성된 데이터는 스캐너 수정이나 인라인 익스커션 식별에 활용할 수 있다. 따라서 엔지니어가 엄격한 패터닝 요구 사항을 맞추기 위해 웨이퍼를 재작업 할지 아니면 공정을 조정할지를 결정하는 데 도움이 된다. 다양한Archer 500LCM 시스템은 이미 전 세계의 여러 파운드리, 논리 소자 및 메모리 제조사에서 첨단 제품 개발과 대량 생산을 위한 오버레이 성능을 독립적으로 평가하는 데 활용되고 있다.

SpectraFilm LD10은 레이저 작동식 플라즈마 광원을 채택해, 신뢰성과 정밀도가 높은 필름 계측을 지원한다. 이러한 고정밀 필름 계측 기능은 FinFET와 같은 복잡한 장치 구조를 제작하는 데 사용되는 박막 멀티레이어 필름 스택을 비롯해 다양한 필름 레이어에 활용할 수 있다. 또한 새로운 적외선 방식의 서브시스템을 사용하면 3D NAND 플래시 장치에 사용되는 두꺼운 필름이나 멀티레이어 필름 스택의 특성화가 가능하다. SpectraFilm LD10은 이전 세대 Aleris® 플랫폼보다 획기적으로 향상된 처리 속도로 높은 생산성을 유지하면서 멀티 패턴 기법 및 기타 첨단 제조 기법과 관련해 추가로 늘어난 필름 레이어를 검증하고 모니터링한다. SpectraFilm LD10은 첨단 IC 개발 및 생산 라인용으로 이미 여러 건의 주문이 접수된 상태다.