다우코닝, 롬앤하스와 ARC 공동 개발 지속

[산업일보]
실리콘 전문 업체 다우코닝(www.dowcorning.co.kr)은 20일, 반도체 리소그래피 재료 공급업체인 롬앤하스(Rohm and Haas Electronic Materials, 이하 ROH)의 마이크로일렉트로닉 기술사업부와 새로운 스핀코팅형 실리콘 하드마스크 반사 방지막 (Anti-reflective Coating, 이하 ARC) 공동 개발을 지속하기로 했다고 밝혔다.

ROH와 다우코닝은 2년 전부터 ARC 공동 개발에 착수해 첫 상용 제품으로 스핀코팅형 하드마스크 재료를 개발한 바 있다. 첨단 하드마스크 ARC는 에칭 선택성의 증가를 위해서는 높은 실리콘 함유량이 요구된다. 이에 다우코닝은 자사가 보유한 실리콘 함유량이 높은 수지 기술을 공급해 ROH의 하드마스크 ARC 제품에 적용하고 있는 것이다.

ARC는 반도체 제조업체들이 기존의 에칭 프로세스를 이용해 다양한 경도와 두께의 기판 위에 패턴을 보다 정확하게 전사할 수 있게 한다. 특히 스핀코팅형 하드마스크 ARC는 기존의 CVD(Chemical Vapor Deposition : 화학기상증착장비) 하드마스크의 에칭 마스크 기능과 반사 제어 기능을 효과적으로 조합하고 있다. 이를 통해 CVD 하드마스크는 IC 제조공정 시간을 현저하게 단축시키는 효과를 거두게 된다. 현재 이 재료는 아시아 반도체 업체들의 대용량 플래시 메모리 생산에 활발히 사용되고 있다.

다우코닝 첨단 기술 및 벤처 사업부의 마리 엑스타인(Marie Eckstein) 부사장은 “우리의 첨단 재료 기술은 분해기능을 향상시키며 ROH와 함께 기존의 광학 리소그래피를 확장하는 데 중요한 역할을 하고 있다”면서, “양 사의 지속적인 협력을 통해 반도체 제조업체들이 기술적인 발전을 거듭하도록 도울 것”이라고 말했다.




미디어다아라 전은경 기자(miin486@daara.co.kr)