기계硏, 50nm급 나노임프린트 리소그래피 장비 개발 고비용 광 리소그래피(lithography) 공정을 대체해 50nm급 미세 패턴을 경제적으로 제작할 수 있는 공정 및 장비가 개발됐다.한국기계연구원(원장 박화영) 이응숙 박사팀은 15일, 자외선 나노임프린트 리소그래피 공정 및 장비 개발에 성공했다고 밝히며 이를 이용하면 고비용 광 리소그래피 공정을 대체해 선폭 50nm급 나노패턴을 경제적으로 제작할 수 있다고 밝혔다.이번에 개발한 기술은 대기압에서 대면적(5인치 이상 크기)의 스탬프를 사용해 자외선 나노임프린트 공정이 가능하다. 개발팀은 기존 나노임프린트 공정에 비해 10배 이상 공정 속도를 향상시켜 공정 및 장비 단가를 50% 이상 낮출 것으로 전망했다.한편, 이번 연구결과에 관한 논문은 국제 SCI 학술지인 ‘Microelectronic Engineering’의 9, 10월호에 연속해 학술지 표지 사진으로 선정되기도 했으며, 총 5건의 국내외 특허를 등록 또는 출원중이다.미디어다아라 김원정 기자(news@daara.co.kr)$$$$$

기계硏, 50nm급 나노임프린트 리소그래피 장비 개발

기사입력 2005-11-15 13:54:00

다중패턴스탬프를 사용한 싱글-스텝 자외선 나노임프린트 공정기술 개념도.

[산업일보]
고비용 광 리소그래피(lithography) 공정을 대체해 50nm급 미세 패턴을 경제적으로 제작할 수 있는 공정 및 장비가 개발됐다.

한국기계연구원(원장 박화영) 이응숙 박사팀은 15일, 자외선 나노임프린트 리소그래피 공정 및 장비 개발에 성공했다고 밝히며 이를 이용하면 고비용 광 리소그래피 공정을 대체해 선폭 50nm급 나노패턴을 경제적으로 제작할 수 있다고 밝혔다.

이번에 개발한 기술은 대기압에서 대면적(5인치 이상 크기)의 스탬프를 사용해 자외선 나노임프린트 공정이 가능하다. 개발팀은 기존 나노임프린트 공정에 비해 10배 이상 공정 속도를 향상시켜 공정 및 장비 단가를 50% 이상 낮출 것으로 전망했다.

한편, 이번 연구결과에 관한 논문은 국제 SCI 학술지인 ‘Microelectronic Engineering’의 9, 10월호에 연속해 학술지 표지 사진으로 선정되기도 했으며, 총 5건의 국내외 특허를 등록 또는 출원중이다.

미디어다아라 김원정 기자(news@daara.co.kr)

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