동부일렉트로닉스, 90나노급 OPC 기술 개발 반도체 제조 공정기술 개발 시기 단축 기대 동부일렉트로닉스(대표 윤대근 부회장, www.dongbuelec.com)는 세계적인 반도체 설계 소프트웨어 회사인 美 멘토(Mentor Graphics Corporation)사와 제휴해 90나노급 제조 공정기술에 적용할 수 있는 OPC(Optical Proximity Correction) 기술을 개발했다고 28일 밝혔다.OPC란 반도체 제조 공정 중 복잡한 전기적 설계회로를 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려 넣는 포토공정(Photo Lithography)에서 빛의 특성 때문에 발생하는 굴절 등 왜곡 현상을 보정해 원하는 설계 회로를 웨이퍼 위에 정확히 패턴화 할 수 있게 해주는 기술이다. 동부일렉트로닉스는 “OPC 기술을 이용해 반도체를 제조할 때 제조공정 상의 오류를 최소화해 약 1년 이상 걸리는 공정기술 개발 시기를 최대 6개월 이상 단축시킬 수 있다. 때문에 양산 시기를 앞당기는 건 물론, 생산 수율도 향상시킬 수 있어 고객사들에게 고품질의 제품을 신속하게 공급할 수 있을 것”이라고 말했다. 또, “이 기술을 이용할 경우 포토공정의 해상도를 높여 등급이 낮아 상대적으로 저렴한 마스크(Mask)를 사용할 수 있어 제조 원가를 절감할 수 있을 것”이라고 강조했다. 동부일렉트로닉스는 선발 회사와 대등한 기술 수준을 가진 이번 OPC 환경을 갖추기 위해 지금까지 약 500만 불 이상을 투자했으며, 이번 기술 개발로 지금까지 확보한 0.13미크론급 공정기술보다 한 단계 업그레이드된 90나노급 제조 공정기술을 확보할 수 있는 기반을 마련했다. 미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)$$$$$

동부일렉트로닉스, 90나노급 OPC 기술 개발

반도체 제조 공정기술 개발 시기 단축 기대

기사입력 2006-08-28 10:52:10

[산업일보]
동부일렉트로닉스(대표 윤대근 부회장, www.dongbuelec.com)는 세계적인 반도체 설계 소프트웨어 회사인 美 멘토(Mentor Graphics Corporation)사와 제휴해 90나노급 제조 공정기술에 적용할 수 있는 OPC(Optical Proximity Correction) 기술을 개발했다고 28일 밝혔다.

OPC란 반도체 제조 공정 중 복잡한 전기적 설계회로를 실리콘 웨이퍼 기판 위에 그려 넣는 포토공정(Photo Lithography)에서 빛의 특성 때문에 발생하는 굴절 등 왜곡 현상을 보정해 원하는 설계 회로를 웨이퍼 위에 정확히 패턴화 할 수 있게 해주는 기술이다.

동부일렉트로닉스는 “OPC 기술을 이용해 반도체를 제조할 때 제조공정 상의 오류를 최소화해 약 1년 이상 걸리는 공정기술 개발 시기를 최대 6개월 이상 단축시킬 수 있다. 때문에 양산 시기를 앞당기는 건 물론, 생산 수율도 향상시킬 수 있어 고객사들에게 고품질의 제품을 신속하게 공급할 수 있을 것”이라고 말했다. 또, “이 기술을 이용할 경우 포토공정의 해상도를 높여 등급이 낮아 상대적으로 저렴한 마스크(Mask)를 사용할 수 있어 제조 원가를 절감할 수 있을 것”이라고 강조했다.

동부일렉트로닉스는 선발 회사와 대등한 기술 수준을 가진 이번 OPC 환경을 갖추기 위해 지금까지 약 500만 불 이상을 투자했으며, 이번 기술 개발로 지금까지 확보한 0.13미크론급 공정기술보다 한 단계 업그레이드된 90나노급 제조 공정기술을 확보할 수 있는 기반을 마련했다.

미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)

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