[산업일보]
평판형 전자인쇄 장비 분야에서 매출 1조원대를 자랑하는 미국의 유력 공정장비 기업 비스텍 리쏘그래피(Vistec Lithography. Inc)社 자이 하쿠 사장이 한국전기연구원(KERI·원장 유태환 www.keri.re.kr) 창원 본원을 방문, 나노 인쇄전자 분야 협력방안을 논의했다.
자이하쿠 사장은 경남 밀양에 위치한 나노공정장비연구그룹의 연구시설과 최근 개발한 나노노광장비 기술을 점검하고 창원본원의 연구시설을 둘러보았다. 방한 기간 동안 구체적인 투자금액과 공동연구 형태 등에 관해 협의한다는 계획이다.
인쇄전자 분야에 적용되는 전자빔(E-Beam) 분야에서 세계 최고의 기술력을 보유한 비스텍은 40여년간 관련 기술을 연구해 온 공정장비 전문기업이다.
2005년에는 유명 광학기업인 라이카를 인수하여 통합하기도 했다.
비스텍은 지난해 나노코리아 행사에서 우연히 KERI의 원통형 나노노광 기술을 접한 뒤 그 우수성과 무한한 적용 가능성에 반해 먼저 공동회사 설립을 제안한 바 있으며, 올해 3월말 서울과학기술회관에서 열린 ‘차세대 반도체/디스플레이를 양산할 수 있는 원통나노금형 제작기술'에 관한 연구성과 발표회에서 KERI와 인력 및 기술정보교류, 공동연구 및 사업화 추진에 관한 MOU를 맺고 기술개발에 협력해 나가기로 했다.
KERI 오현석 박사팀은 나노미터(10억분의 1미터)급의 미세한 무늬를 대면적의 반도체 및 LCD 등의 기판이나 태양전지 등에 대량으로 정밀하게 인쇄할 수 있는 첨단 기술이 유럽 일본 등 세계 굴지의 기업·연구소에 앞서 국내 연구진에 의해 세계 최초로 개발했다.
그동안 업계의 숙원이자 난공불락으로 여겨졌던 기술 병목을 해결한 쾌거로서 향후 반도체/디스플레이 양산의 패러다임을 변화시켜 우리나라가 이 분야에서 세계 시장을 주도하는데 크게 기여하는 한편, 입는 컴퓨터와 접을 수 있는 디스플레이와 같은 차세대 신기술 제품 출현을 앞당기는 중요한 계기가 될 것으로 전망된다.
경남 창원에 소재한 출연연구기관 한국전기연구원(KERI / 원장 유태환 www.keri.re.kr)은 31일 서울 역삼동 한국과
학기술회관에서 ‘차세대 반도체/디스플레이를 양산할 수 있는 원통나노금형 제작기술'에 관한 연구성과 발표회를
갖고 반도체 회로나 차세대 디스플레이, 태양전지 등의 대면적 나노·마이크로 패턴을 인쇄할 수 있는 원통형 나노
노광 장비와 플라즈마 식각장비 및 일괄 공정 기술을 발표했다.