(주)에이앤아이, ‘LUKAS'브랜드 앞세워 디스플레이 검사 장비 명가로 자리매김 31M급 고해상도 면 계측기 등 선보여 디스플레이의 양산 과정에 사용되는 광계측기는 광원 및 기준계측기의 주기적인 관리 및 양산 프로세스가 엄격히 갖춰져야 품질의 일관성을 확보할 수 있고 양질의 디스플레이 생산에 이바지할 수 있다.7일 개막해 9일까지 서울 코엑스에서 열리는 K-Display 2025에 참가한 (주)에이앤아이(ANI)는 2000년에 설립된 이래 지금까지 디스플레이 검사 장비의 개발 및 제조에 집중해 온 기업으로 자체 브랜드인 ‘LUKAS'를 광계측기 분야에서 유의미한 성과를 이뤄내고 있다.이번 전시회에서 에이앤아이가 주력으로 소개하는 제품은 면계측기인 ‘LUKAS-M631 RF 시리즈’로, 31M급 고해상도 면계측과 함께 리모트 포커스 기능이 탑재돼 더욱 정밀한 측정이 가능해졌다.에이앤아이 측의 설명에 따르면, 이 제품의 가장 큰 특징은 측정 위치에 따라서 렌즈의 포커스가 변할 때 발생되는 렌즈의 비선형적 특성을 보상하는 알고리즘이 적용됐다는 점과, 현장에서 성능의 감소 없이 작동거리를 신속하게 변경할 있다는 점이다.RF기능을 통해 1mm이하의 초정밀 교정이 가능하며 포커스 변경도 용이하다. 또한, 시야각이 낮아 높은 정확도로 면의 휘도와 색도 분포를 측정할 수 있다. 에이앤아이 측 관계자는 “기존에는 각 시료에 따라 각 장비가 전담으로 투입되는 경우가 많았고, 시료가 바뀌면 그에 맞춰서 교정이나 개조 수준의 작업을 거쳤어야 했다”며 “이 작업은 현장의 작업자가 간단한 튜닝 정도의 작업으로 다양한 대상체에 대한 검사가 가능하다”고 말했다.

(주)에이앤아이, ‘LUKAS'브랜드 앞세워 디스플레이 검사 장비 명가로 자리매김

31M급 고해상도 면 계측기 등 선보여

기사입력 2025-08-08 15:47:17

[산업일보]
디스플레이의 양산 과정에 사용되는 광계측기는 광원 및 기준계측기의 주기적인 관리 및 양산 프로세스가 엄격히 갖춰져야 품질의 일관성을 확보할 수 있고 양질의 디스플레이 생산에 이바지할 수 있다.

7일 개막해 9일까지 서울 코엑스에서 열리는 K-Display 2025에 참가한 (주)에이앤아이(ANI)는 2000년에 설립된 이래 지금까지 디스플레이 검사 장비의 개발 및 제조에 집중해 온 기업으로 자체 브랜드인 ‘LUKAS'를 광계측기 분야에서 유의미한 성과를 이뤄내고 있다.

이번 전시회에서 에이앤아이가 주력으로 소개하는 제품은 면계측기인 ‘LUKAS-M631 RF 시리즈’로, 31M급 고해상도 면계측과 함께 리모트 포커스 기능이 탑재돼 더욱 정밀한 측정이 가능해졌다.

에이앤아이 측의 설명에 따르면, 이 제품의 가장 큰 특징은 측정 위치에 따라서 렌즈의 포커스가 변할 때 발생되는 렌즈의 비선형적 특성을 보상하는 알고리즘이 적용됐다는 점과, 현장에서 성능의 감소 없이 작동거리를 신속하게 변경할 있다는 점이다.

RF기능을 통해 1mm이하의 초정밀 교정이 가능하며 포커스 변경도 용이하다. 또한, 시야각이 낮아 높은 정확도로 면의 휘도와 색도 분포를 측정할 수 있다.

에이앤아이 측 관계자는 “기존에는 각 시료에 따라 각 장비가 전담으로 투입되는 경우가 많았고, 시료가 바뀌면 그에 맞춰서 교정이나 개조 수준의 작업을 거쳤어야 했다”며 “이 작업은 현장의 작업자가 간단한 튜닝 정도의 작업으로 다양한 대상체에 대한 검사가 가능하다”고 말했다.