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케이엠, “파티클 제로 도전”… 초미세 공정용 클린룸 솔루션 공개
임지원 기자|jnews@kidd.co.kr
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케이엠, “파티클 제로 도전”… 초미세 공정용 클린룸 솔루션 공개

세미콘 코리아서 반도체 오염 제어 제품군 공개

기사입력 2026-02-15 11:00:02
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케이엠, “파티클 제로 도전”… 초미세 공정용 클린룸 솔루션 공개

케이엠, “파티클 제로 도전”… 초미세 공정용 클린룸 솔루션 공개

[산업일보]
클린룸 청정용품 전문기업 케이엠(KM)이 ‘세미콘 코리아 2026’에서 차세대 반도체 공정의 수율을 결정짓는 고성능 오염 제어 제품군을 대거 공개했다. 특히 AI 반도체와 HBM 생산라인에 최적화된 고기능성 방진복과 와이퍼를 전면에 내세웠다.

관계자는 “반도체 공정이 나노미터 단위로 고도화됨에 따라 미세한 보풀 하나도 제품 불량으로 직결될 수 있다”며 “케이엠은 저발진 소재와 정밀 가공 기술을 결합해 오염 발생을 최소화했다”고 말했다.

현장에서는 클린룸용 장갑(글러브)의 착용감과 미끄럼 방지 성능을 개선해 작업 효율성을 높인 제품들도 관람객들의 주목을 받았다.

케이엠은 친환경 트렌드에 발맞춰 재활용 원료를 적용한 ESG 제품 라인업도 소개했다. “글로벌 반도체 제조사들의 친환경 공급망 관리 기준을 충족하는 동시에 제조 현장의 지속 가능성을 높이는 전략”이라는 설명이다.

케이엠 관계자는 “반도체 미세화 한계를 극복하기 위해서는 소재뿐만 아니라 제조 환경의 청정도가 필수적”이라며 “전 세계 반도체 생산 현장에 고성능·친환경 오염 제어 솔루션을 지속적으로 공급할 것”이라고 밝혔다.

한편 서울 삼성동 코엑스(COEX)에서 역대 최대 규모로 열린 ‘SEMICON KOREA 2026’은 13일 폐막했다.



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