한·중·일 3국간 특허 받기 쉬워진다

[산업일보]

특허청(청장 이수원)은 경주에서 제23차 한·일 특허청장회담과 제11차 한·중·일 특허청장회담을 개최했다.

제23차 한·일 특허청장회담에서 이수원 특허청장은 이와이 요시유키(IWAI Yoshiyuki(岩井良行)) 일본 특허청장과 한·일간 국제특허심사하이웨이(PCT-PPH)를 시행하기로 합의하여 이르면 내년 상반기 중으로 제도 시행에 대한 양해각서를 체결하고, 체결과 동시에 곧바로 제도가 시행될 수 있도록 추진할 예정이라고 밝혔다.

이로써 특허청은 지난 7월 미국과 처음으로 동 제도를 시행한 이후 중국, 일본과 내년에 PCT-PPH를 시행하기로 합의, 한·중·일 3국간 쌍방향 PCT-PPH를 구축한 것이다.

PCT-PPH는 우선심사를 받을 수 있는 기회를 PCT 출원으로 확대한 제도로서 동 하이웨이 이용시 한·중·일 3국간 특허 심사처리 기간은 최대 1년 이상(18개월→5개월)단축되어 특허출원에 따른 소요 시간이 크게 줄어들 것으로 전망되며, PCT 출원 등록률 또한 크게 증가할 것으로 예상된다.

제11차 한·중·일 특허청장회담에서 이수원 특허청장은 티엔리푸 중국특허청장(TIAN Lipu(田力普)) 및 이와이 일본특허청장(IWAI Yoshiyuki(岩井良行))과 함께 新특허협력 로드맵을 구축하고, 한·중·일 지재권 협력 선언문을 채택했다.

이번에 최초로 채택되는 “한·중·일 지재권 협력선언문”에는 지재권 전반에 대한 3국간 협력 방안이 제시, 특허심사결과 공동활용, 지재권 보호, 인력교육 등을 주요 골자로 하고 있다.

이수원 특허청장은 향후 한·중·일 3국간 지재권 분야의 협력은 지난 10년에 비해 더욱 가속화될 것으로 기대되므로 협력을 보다 원활히 하고, 올바른 협력 방향을 제시할 이번 선언문의 채택은 매우 시의 적절하였다고 평가하면서 앞으로 3국은 동 선언문에 따라 서로의 지재권 발전을 위해 협력을 한층 강화해 나갈 것이라고 밝혔다.

이 밖에도 이번 한·중·일 청장회담에서 3국은 ▲ 한·중·일 新특허협력 로드맵 구축 ▲ 3국간 실용신안제도 공동 연구 ▲ 한·중·일 디자인 포럼 정례화 ▲ 선진 5개청간 심사관 과정 운영 등에 대한 합의를 이끌어 냈다.

특히, 실용신안의 경우 한·중·일 3국의 실용신안 출원건수가 전 세계의 95%에 해당하나 한·중·일 3국간 제도운영에 차이가 있었으므로 해외에 진출한 우리기업의 편의를 위해서는 실용신안제도를 국가간 비교·연구할 필요성이 있었는데, 이번 회담에서 한·중·일 3국간 공동 연구를 추진하기로 합의했다.