3차원 나노기공구조 이용한 무반사 코팅재료 개발

[산업일보]
LCD나 디스플레이 표면, 광학재료에 널리 쓰이고 있는 무반사코팅(Anti-reflective Coating) 재료를 만드는 획기적인 기술이 개발됐다.

포스텍(POSTECH, 포항공과대학교) 화학공학과 김진곤(블록공중합체 자기조립 창의연구단장) 교수 연구팀은 ‘폴리스티렌-폴리메틸메타아크릴레이트(PS-PMMA)’ 블록공중합체를 이용해 빛이 반사 없이 100% 투과하는 무반사 코팅재료로 사용할 수 있는 기술을 개발했다고 29일 밝혔다.

무반사 코팅에 사용되는 재료는 무기물과 유기물로 이뤄져 있는데, 이러한 물질의 굴절률 때문에 무반사가 가능토록 하기 위해서는 물질 내에 많은 양의 기공(氣孔)을 인위적으로 만들 수밖에 없었다.

김 교수 연구팀은 ‘폴리스티렌-폴리메틸메타아크릴레이트(PS-PMMA)’ 블록공중합체 용액을 대상 기판 표면에서 스핀 코팅(고속회전을 통해 코팅 처리하는 코팅 방식)을 한 후, PMMA 성분을 자외선으로 처리·제거해 스펀지 형태의 3차원 구조 뼈대 사이로 수십 나노미터 크기의 기공을 만들어 가시광선에서 근적외선 영역까지의 빛의 반사를 완벽하게 차단하는데 성공했다.

이 내용은 미국에서 발행되는 표면과학분야 세계적 학술지인 ‘랭뮤어(Langmuir)’ 8월 12일자 온라인판에 소개됐으며, 네이처 자매지 ‘네이처 나노테크놀로지(Nature Nanotechnology)’ 최신호에 매주 나노 관련 발표논문 중 주요 논문 4편만 소개하는 ‘연구 하이라이트(Research Highlights)’에 선정되기도 했다.

네이처 나노테크놀로지는 김 교수팀의 연구내용을 소개하며 “이 나노구조는 기존 코팅 방법보다 훨씬 손쉽게 넓은 면적에서도 완벽히 제어할 수 있어 무반사 코팅 기술 개발에 일대 전환점이 될 것”이라고 평가했다.



미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)