롬앤하스, 비전패드 및 IC1000 패드 시리즈 신제품 출시
불량률 개선, CMP 공정 생산성 향상에 기여
반도체 웨이퍼 표면연마용 CMP(화학 기계적 연마) 기술 분야의 선두 주자인 롬앤드하스 일렉트로닉 머티리얼즈 씨엠피 테크놀로지(Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies, 이하 롬앤하스CMP)는 27일, IC1000™ AT 시리즈 패드로 널리 알려진 IC1000 패드 시리즈와 VisionPad™ 폴리싱 패드 시리즈의 신제품을 출시했다.
이번에 출시된 신제품은 첨단 반도체 제조 회사들이 필요로 하는 AMP 공정의 생산성 및 기술 향상 욕구를 충족시킬 뿐 아니라 90nm 내지 45nm의 첨단 노드로부터 여러 가지 연마 응용 대안으로 설계됐다고 롬앤하스는 밝혔다.
비전패드(VisionPad) CMP 제품군에 추가된 이번 제품은 첨단 공정용으로 설계된 것으로, ▲STI용 비전패드, ▲카파 배리어용 비전패드 VP3200, ▲카파 배리어용 연마용 비전패드, ▲카파 배리어용 EcoVision™ EV4000 시리즈로 제공된다.
롬앤하스CMP 캐티 마캄(Cathie Markham) 기술 담당 부사장은 “새로운 비전패드는 결점 개선을 크게 향상시키고 대량 생산을 가능케 하며, 연마 및 기계 공구의 수명 연장이 필요한 공정 개발에도 이상적”이라고 언급하면서, “예를 들어 STI용 비전패드는 연마 결과치를 떨어뜨리지 않고도 불량률을 50% 줄이며 EcoVision EV4000은 카파 배리어 공정에서 불량을 엄청나게 줄여준다”고 부연 설명했다.
또한, 새롭게 출시된 IC1000 AT 연마 패드 시리즈는 최첨단 엔드 포인트(End-point) 기술과 극한적인 공정 조건에 대비한 새로운 접착 기술 등이 적용되고, 불량률을 줄이기 위한 독특한 홈 모양으로 설계됐으며, 수명연장, 엣지 조정 기능을 제공한다.
비전패드 신제품은 올 4/4분기나 내년1/4분기에, IC1000 AT CMP 패드는 내년1/4분기에 출시될 예정이다.
한편, 롬앤하스CMP는 오는 12월 대만 신주과학단지에 아시아 태평양 제조 및 기술 센터를 설립할 계획이다.
미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)