실리콘 반도체의 한계를 극복할 수 있는 소재로 주목받는 2차원 소재를 잉크 형태로 만들어서 고성능·저전력 반도체 소자를 대면적으로 구현할 수 있는 기술을 국내 연구진이 개발했다.
한국연구재단은 강주훈 교수(성균관대학교) 연구팀이 다양한 광물의 원자층 사이사이에 분자를 침투시키는 방식으로 도체, 반도체, 부도체 특성을 갖는 2차원 소재 잉크를 합성하고, 이를 기반으로 웨이퍼단위(wafer-scale)의 다양한 반도체 소자를 블럭 조립하듯이 구현할 수 있는 방식을 개발했다고 밝혔다.
기존에는 수 나노미터 두께의 아주 얇은 2차원 소재를 얻기 위해 광물에 스카치테이프를 붙였다 떼어내는 방식이 주를 이뤘다. 하지만 균일한 박리효과를 기대할 수 없어 생산효율이 떨어지고, 형성된 2차원 소재의 면적이 수십~수백 제곱 마이크로 미터(micrometer2)에 불과한 한계가 있었다.
연구팀은 잉크 형태의 용액공정으로 얇은 2차원 소재를 균일하게 합성할 수 있는 공정을 설계했다. 이를 통해 2차원 소재를 실제 반도체 산업에 적용하는데 장애물이었던 기존 박리공정의 소요시간과 소요비용 문제를 해결했다. 또한 10센티미터(cm) 직경의 웨이퍼 위에 대면적화 하는 데 성공했다고 밝혔다.
한국연구재단은 연구진이 개발한 2차원 소재 잉크 합성법과 이를 기반으로 한 대면적 소자 제작 기술을 통해 실제 산업에서 필요로 하는 다양한 고성능 반도체 소자를 맞춤 제작할 수 있을 것으로 보이며, 복잡한 공정 없이 용액공정만으로 제작 가능하다는 점에서 의의가 있다고 평했다.
이번 기술개발은 과학기술정보통신부와 한국연구재단이 추진하는 신진연구, 나노소재기술개발사업 등의 지원으로 수행했다.