(주)아이피에스의 나노-ALD 200mm 시스템 (주)아이피에스는 반도체 전공정의 핵심장비이자 CVD장비의 차세대 장비로 두각을 나타내는 ALD(Atomic Layer Deposition) 장비를 세계 최초로 개발함으로써 국내뿐 아니라 해외 유수 반도체 소자업체에까지 그 기술력을 인증 받은 반도체 장비업체다.아이피에스의 나노-ALD 200mm 시스템은 선폭 90nm이하 씬필름(thin film) depo 공정에서 step coverage, thickness control, particle 문제 해결력이 우수하다. 이 제품에 적용된 싱글 웨이퍼 시스템은 웨이퍼 간 depo 막질이 물리적, 전기적으로 균일한 특성을 가진다. 또한 Gate oxide와 capacitor에 적용하는 고품질 oxide 필름을 확보하기 위해 오존(O3)을 사용했다.전세계 칩 제조사의 공정 스펙을 만족시킨 이 제품은 현재 전세계 양산 시스템에 적용되고 있다.미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)

(주)아이피에스의 나노-ALD 200mm 시스템

기사입력 2005-02-02 15:58:24

[산업일보]
(주)아이피에스는 반도체 전공정의 핵심장비이자 CVD장비의 차세대 장비로 두각을 나타내는 ALD(Atomic Layer Deposition) 장비를 세계 최초로 개발함으로써 국내뿐 아니라 해외 유수 반도체 소자업체에까지 그 기술력을 인증 받은 반도체 장비업체다.

아이피에스의 나노-ALD 200mm 시스템은 선폭 90nm이하 씬필름(thin film) depo 공정에서 step coverage, thickness control, particle 문제 해결력이 우수하다.
이 제품에 적용된 싱글 웨이퍼 시스템은 웨이퍼 간 depo 막질이 물리적, 전기적으로 균일한 특성을 가진다. 또한 Gate oxide와 capacitor에 적용하는 고품질 oxide 필름을 확보하기 위해 오존(O3)을 사용했다.

전세계 칩 제조사의 공정 스펙을 만족시킨 이 제품은 현재 전세계 양산 시스템에 적용되고 있다.

미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)

(주)아이피에스의 나노-ALD 200mm 시스템

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