산업용 이온빔 장치 국산화 박차

[산업일보]
과학기술부 21세기 프론티어연구개발사업의 일환으로 추진되고 있는 ‘양성자기반공학기술개발사업’의 성과물인 ‘산업용 이온빔 장치 제작기술’이 국내 민간기업을 통해 상용화된다.

과학기술부는 13일, 한국원자력연구소 양성자기반공학기술개발사업단(단장 최병호)이 ‘산업용 이온빔 장치 제작기술’을 설비제작 전문 벤처기업인 아이시스(주)에 이전하기로 합의하고 기술실시계약을 체결했다고 밝혔다. 계약 이후 첫 매출액이 발생한 시점부터 5년간 매출액의 3%(최소 1억2천만원)의 기술료를 받는 조건이다.

산업용 이온빔 장치는 양성자, 헬륨, 질소, 아르곤, 제논 등의 이온을 대량으로 발생시킨 뒤 이를 수십 keV 이상으로 가속해서 물질 내에 주입하거나 표면에 조사하는 장치다. 금속 표면의 경도, 내마모성 및 내부식성 향상, 고분자 표면의 전기 전도도 향상, 자외선 차단, 광투과율 조절 등 물질의 표면 개질과 미세가공에 널리 이용되고 있다.

이번에 이전한 ‘산업용 이온빔 장치’ 제작기술은 한국원자력연구소가 개발한 기술을 모태로 양성자기반공학기술개발사업의 양성자가속장치 기술을 응용, 장치 각 부분을 개량해 이온빔 조사처리 능력을 기존 장치보다 수배 이상 높이고 장비의 범용성을 크게 향상시켰다.

아이시스(주) 배상열 대표이사는 “고분자 플라스틱을 전도체로 바꾸고 전자파 차폐 기능을 띠게 하는 등 이온빔 장치의 활용 분야는 다양하다”며, “특히 나노가공, 나노소재 생산 등 향후 나노기술을 구현하는데도 이온빔 장치 기술이 크게 활용될 것”이라고 말했다.

이온빔 장치의 세계 시장 규모는 2004년 기준 연간 약 12억달러이며, 국내 시장의 경우 반도체 도핑용으로 수입된 것만 1억8천만달러에 달했다. 이온빔 조사장치의 대당 가격은 10억~40억원으로, 이번 기술 이전을 통한 이온빔 장치의 국산화로 제작원가도 상당히 낮춰 연간 100억원 이상의 수입대체 효과를 가져올 것으로 기대된다.



미디어다아라 이경옥 기자(withok2@daara.co.kr)