‘식각액 조성물’ 식각공정 불량 최소화 차세대 디스플레이, 반도체 장치 등의 회로배선에 사용되는 식각액 조성물에 관한 발명으로 식각 공정의 불량을 최소화 하고 식각 처리량을 증가시킨 기술이 특허기술상 시상식에서 세종대왕상으로 선정됐다.(주)이앤에프테크놀로지는 식각액 조성물은 상업화했으며 다양한 특허 포트폴리오를 구축해 시장 성장 잠재력이 높은 중국이나 대만에도 활발한 진출이 전망된다.특허청은 30일 한국지식재산센터에서 열린 올해 상반기 특허기술상 시상식에서 (주)이앤에프테크놀로지의 신효섭 부장 외 3인이 공동으로 발명한 반도체 등의 제조에 사용되는 식각액 조성물을 영예의 세종대왕상으로 선정했다.이번에는 (주)이앤에프테크놀로지가 세종대왕상, 충무공상은 한미약품(주), 지석영상은 한전 KPS(주)아 동아에스티(주), 정약용상은 (주)루미르, 홍대용상은 (주)대명엔지니어링, 이용국씨외 1인이 발명한 ‘록크 너트 및 이를 구비하는 체결 유닛’이 수상했다.특허기술상 수상자에게는 체계적인 창업 지원프로그램 참여 기회가 제공되며 수상자가 지원 대상요건을 만조가면 중소기업청의 창업맞춤형 사업화 지원 사업 대상 선정 및 세계경영연구원의 창업기업가 사관학교 입학 시 서류전형 면제 등의 혜택을 받게 된다.

‘식각액 조성물’ 식각공정 불량 최소화

기사입력 2016-06-30 15:07:05

[산업일보]
차세대 디스플레이, 반도체 장치 등의 회로배선에 사용되는 식각액 조성물에 관한 발명으로 식각 공정의 불량을 최소화 하고 식각 처리량을 증가시킨 기술이 특허기술상 시상식에서 세종대왕상으로 선정됐다.

(주)이앤에프테크놀로지는 식각액 조성물은 상업화했으며 다양한 특허 포트폴리오를 구축해 시장 성장 잠재력이 높은 중국이나 대만에도 활발한 진출이 전망된다.

특허청은 30일 한국지식재산센터에서 열린 올해 상반기 특허기술상 시상식에서 (주)이앤에프테크놀로지의 신효섭 부장 외 3인이 공동으로 발명한 반도체 등의 제조에 사용되는 식각액 조성물을 영예의 세종대왕상으로 선정했다.

이번에는 (주)이앤에프테크놀로지가 세종대왕상, 충무공상은 한미약품(주), 지석영상은 한전 KPS(주)아 동아에스티(주), 정약용상은 (주)루미르, 홍대용상은 (주)대명엔지니어링, 이용국씨외 1인이 발명한 ‘록크 너트 및 이를 구비하는 체결 유닛’이 수상했다.

특허기술상 수상자에게는 체계적인 창업 지원프로그램 참여 기회가 제공되며 수상자가 지원 대상요건을 만조가면 중소기업청의 창업맞춤형 사업화 지원 사업 대상 선정 및 세계경영연구원의 창업기업가 사관학교 입학 시 서류전형 면제 등의 혜택을 받게 된다.