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[산업일보]
노벨러스 시스템즈의 ALTUS는 축소 선폭 기술(90nm 이하)의 텅스텐 플러그 제조에 이용되는 첨단 텅스텐 CVD 프로세스 챔버로써 노벨러스 고유의 텅스텐 CVD 기술인 PNL(Pulsed Nucleation Layer) 증착 기술을 이용해 최대 20:1의 종횡비(aspect-ratio)를 갭필할 수 있다.
ALTUS 시스템의 MSSD(멀티스테이션 순차 증착) 방식은 쓰루풋을 제공하며 고유의 MOER(Minimum Overlap Exclusion Ring) 기술 적용을 통해 후면 파티클의 위험 없이 웨이퍼 가장자리에 인접해서 CMP 호환 증착을 할 수 있다. ALTUS는 200mm 및 300mm 버전으로 생산된다.
노벨러스 시스템즈는 S&P 500 기업 중 하나로 반도체 제조용 증착, 표면처리 및 MP(chemical mechanical planarization) 장비 전문 개발업체이다. 이 회사는 최저 비용으로 최첨단 반도체 디바이스의 양산 제조에 최고의 솔루션을 제공하고 있다.
미디어다아라 김원정 기자(news@daara.co.kr)
