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SK, 日도넨에 '특허분쟁' 승소
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SK, 日도넨에 '특허분쟁' 승소

기사입력 2007-01-15 10:40:19
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[산업일보]
SK㈜는 2004년말 개발한 리튬이온전지 분리막에 대해 일본 도넨사(社)가 특허 및 영업비밀 침해를 이유로 서울중앙지법에 제기한 특허소송에서 승소했다고 14일 밝혔다.

리튬이온전지 분리막은 양극과 음극을 분리하고 수십 나노미터 크기의 기공을 통해 전해질 이온을 통과시키는 리튬이온전지의 핵심부품이다.

SK는 2004년말 세계 세번째이자 국내 처음으로 이 분리막을 개발한 데 이어 2005년말부터 본격 생산에 들어갔고, 이에 지난해 3월 도넨사는 "우리회사의 특허와 영업비밀을 침해했다"며 소송을 제기한 바 있다.

SK는 도넨의 이런 소송 제기를 "승소를 위한 것이 아니라 영업방해를 위한 것"으로 단정하고 앞서 공정거래위원회에 '불공정 행위'를 이유로 제소한 바 있다.

이런 가운데 SK는 이번 승소를 계기로 충북 청주 제1 공장에 이어 올해 상반기에 2공장을 가동하는 등 오는 2010년까지 모두 4개의 생산설비를 운영하는 것으로 이 사업에 박차를 가할 계획이다.



SK는 이를 통해 국내 수요를 대부분 충당할 수 있게 되면서 연간 1천억원 가량의 수입대체효과를 기대할 수 있게 됐을뿐 아니라 세계시장 공급량의 20%를 점유할 수 있을 것으로 내다봤다.

리튬계열 전지는 2차 전지 시장에서 과반을 점하고 있으며 휴대폰, 노트북 등을 중심으로 수요가 급증하고 있다.




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