미국 특허 획득, 한 결 간편해진다 한·미 특허청, 특허공동심사 2차 시범사업 돌입 한·미 특허청은 2017년 11월 1일부터 특허 공동심사(CSP, Collaborative Search Program) 2차 시범사업을 시행한다. CSP는 우리나라와 미국에 동일한 발명이 출원된 경우 특허여부를 판단하는데 필요한 선행기술 정보를 양국 심사관들이 공유하고, 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 제도로, 미국 특허청에서 약 5백만 원의 우선심사 신청료를 면제해, 국내 기업의 미국특허 취득 시간과 비용이 크게 줄어든다. 그러나, 지난 1차 시범사업 동안 국내외 출원인으로부터 심사처리 기간 단축과 심사품질 향상에 기여한다는 호평을 받았음에도 불구하고, 신청요건이 엄격하고 일부 절차가 불합리하다는 의견이 있었다. 이에 양국 특허청은 이번 2차 시범사업에서 종전에는 CSP 신청 당시 양국 출원서에 기재된 모든 발명이 동일해야 했으나(전체 청구항 동일), 대표 발명만이 동일하도록(독립 청구항만 동일) 신청요건을 완화했다. 또한, 미국만의 독특한 제도로 인해, 양국이 CSP를 통해 공유한 선행기술 정보일지라도 출원인이 이를 미국에 중복 제출해야 하는 부담이 있었으나, 절차를 간소화해 이를 해소했다. 향후 특허청은 국내 기업이 다른 국가에서도 편리하게 해외특허를 확보할 수 있도록, 중국 등 주요국과 CSP를 확대할 계획이다.

미국 특허 획득, 한 결 간편해진다

한·미 특허청, 특허공동심사 2차 시범사업 돌입

기사입력 2017-11-09 15:09:20

[산업일보]
한·미 특허청은 2017년 11월 1일부터 특허 공동심사(CSP, Collaborative Search Program) 2차 시범사업을 시행한다.

CSP는 우리나라와 미국에 동일한 발명이 출원된 경우 특허여부를 판단하는데 필요한 선행기술 정보를 양국 심사관들이 공유하고, 다른 출원 건보다 빠르게 심사해 주는 제도로, 미국 특허청에서 약 5백만 원의 우선심사 신청료를 면제해, 국내 기업의 미국특허 취득 시간과 비용이 크게 줄어든다.

그러나, 지난 1차 시범사업 동안 국내외 출원인으로부터 심사처리 기간 단축과 심사품질 향상에 기여한다는 호평을 받았음에도 불구하고, 신청요건이 엄격하고 일부 절차가 불합리하다는 의견이 있었다.

이에 양국 특허청은 이번 2차 시범사업에서 종전에는 CSP 신청 당시 양국 출원서에 기재된 모든 발명이 동일해야 했으나(전체 청구항 동일), 대표 발명만이 동일하도록(독립 청구항만 동일) 신청요건을 완화했다.

또한, 미국만의 독특한 제도로 인해, 양국이 CSP를 통해 공유한 선행기술 정보일지라도 출원인이 이를 미국에 중복 제출해야 하는 부담이 있었으나, 절차를 간소화해 이를 해소했다.

향후 특허청은 국내 기업이 다른 국가에서도 편리하게 해외특허를 확보할 수 있도록, 중국 등 주요국과 CSP를 확대할 계획이다.

뒤로 기사목록

산업일보 영상뉴스 모아보기

산업일보 페이스북 바로가기

김진성 기자 weekendk@kidd.co.kr

이 기자의 다른기사 보기 >

안녕하세요~산업1부 김진성 기자입니다. 스마트공장을 포함한 우리나라 제조업 혁신 3.0을 관심깊게 살펴보고 있으며, 그 외 각종 기계분야와 전시회 산업 등에도 한 번씩 곁눈질하고 있습니다.