인쇄하듯 반도체 회로 찍는 ‘나노 임프린트 리소그래피’ 캐논, ‘세미콘 코리아 2025’서 광원별 노광장비 및 리소그래피 기술 소개 ‘세미콘 코리아 2025’에 참가한 캐논이 인쇄하듯 반도체 회로를 찍는 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술을 소개했다.리소그래피(Lithography)는 설계한 회로 패턴을 반도체 웨이퍼에 그려내는 공정이다. 웨이퍼에 화학약품을 도포한 뒤 광원을 쬐어 패턴을 그리는 노광장비를 주로 사용한다. 최첨단 반도체 공정용 노광장비는 네덜란드의 ASML이 사실상 독점하고 있다. 캐논은 완전히 새로운 기술로 반도체 설비 시장에 도전장을 내밀었다. 캐논의 ‘나노 임프린트 리소그래피’ 기술은 ASML의 극자외선(EUV) 장비와 용도는 같지만 회로를 새기는 방식이 다르다. EUV 장비는 빛을 쏘아 패턴을 새기는 방식이지만, 나노 임프린트 기술은 패턴이 새겨진 스탬프를 도장처럼 찍어 패턴을 만든다. 캐논 쎄미콘덕터 엔지니어링 코리아 관계자는 “원하는 그림을 찍어서 만드는 인쇄 기술과 비슷하다”라면서 “빛 기반의 기존 공정과 비교하면 여러 과정이 압축된다”라고 설명했다.이어 “공정을 단순화하면 그만큼 사용하는 화학물질과 전력 사용량을 줄일 수 있다”라면서 “친환경 기조가 확산되는 만큼 고객사에게도 메리트가 있을 것”이라고 덧붙였다.한편, 이번 전시회는 19일부터 21일까지 삼성동 코엑스에서 진행했다.

인쇄하듯 반도체 회로 찍는 ‘나노 임프린트 리소그래피’

캐논, ‘세미콘 코리아 2025’서 광원별 노광장비 및 리소그래피 기술 소개

기사입력 2025-02-22 13:29:47

설명하는 캐논 관계자

[산업일보]
‘세미콘 코리아 2025’에 참가한 캐논이 인쇄하듯 반도체 회로를 찍는 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술을 소개했다.

리소그래피(Lithography)는 설계한 회로 패턴을 반도체 웨이퍼에 그려내는 공정이다. 웨이퍼에 화학약품을 도포한 뒤 광원을 쬐어 패턴을 그리는 노광장비를 주로 사용한다.

최첨단 반도체 공정용 노광장비는 네덜란드의 ASML이 사실상 독점하고 있다. 캐논은 완전히 새로운 기술로 반도체 설비 시장에 도전장을 내밀었다.

캐논의 ‘나노 임프린트 리소그래피’ 기술은 ASML의 극자외선(EUV) 장비와 용도는 같지만 회로를 새기는 방식이 다르다. EUV 장비는 빛을 쏘아 패턴을 새기는 방식이지만, 나노 임프린트 기술은 패턴이 새겨진 스탬프를 도장처럼 찍어 패턴을 만든다.

캐논 쎄미콘덕터 엔지니어링 코리아 관계자는 “원하는 그림을 찍어서 만드는 인쇄 기술과 비슷하다”라면서 “빛 기반의 기존 공정과 비교하면 여러 과정이 압축된다”라고 설명했다.

이어 “공정을 단순화하면 그만큼 사용하는 화학물질과 전력 사용량을 줄일 수 있다”라면서 “친환경 기조가 확산되는 만큼 고객사에게도 메리트가 있을 것”이라고 덧붙였다.

한편, 이번 전시회는 19일부터 21일까지 삼성동 코엑스에서 진행했다.