KLA-TENCOR, 최신 오버레이 측정 솔루션 개발 KLA-Tencor가 리소그래피에서 65nm노드 이상의 제어가 필요한 반도체 제조업체의 필요를 충족시키기 위해 설계된 최신 오버레이 측정 솔루션인 Archer AIM+을 오늘 발표했다.회사측에 따르면, Archer 툴 플랫폼에 기초한 Archer AIM+는 KLA-Tencor의 이전 세대 Archer AIM과 비교했을 때 20%까지 처리 능력이 향상됐으며 오버레이 측정 성능의 핵심적인 측정 기준인 총 측정 불확실성(TMU)이 50%나 감소됐다고 설명했다. 이러한 성과는 생산 능력 측면에서 2세대 또는 3세대 정도로 진보한 수준이라고 강조했다.Archer AIM+는 현재 첨단 애플리케이션용으로 선도적인 메모리 소자 및 로직 소자 제조 업체에서 평가중이며, 이미 일부 팹 업체에 채택되기도 했다.미디어다아라 김원정 기자(news@daara.co.kr)$$$$$

KLA-TENCOR, 최신 오버레이 측정 솔루션 개발

기사입력 2005-06-15 10:31:00

[산업일보]
KLA-Tencor가 리소그래피에서 65nm노드 이상의 제어가 필요한 반도체 제조업체의 필요를 충족시키기 위해 설계된 최신 오버레이 측정 솔루션인 Archer AIM+을 오늘 발표했다.

회사측에 따르면, Archer 툴 플랫폼에 기초한 Archer AIM+는 KLA-Tencor의 이전 세대 Archer AIM과 비교했을 때 20%까지 처리 능력이 향상됐으며 오버레이 측정 성능의 핵심적인 측정 기준인 총 측정 불확실성(TMU)이 50%나 감소됐다고 설명했다. 이러한 성과는 생산 능력 측면에서 2세대 또는 3세대 정도로 진보한 수준이라고 강조했다.

Archer AIM+는 현재 첨단 애플리케이션용으로 선도적인 메모리 소자 및 로직 소자 제조 업체에서 평가중이며, 이미 일부 팹 업체에 채택되기도 했다.

미디어다아라 김원정 기자(news@daara.co.kr)

KLA-TENCOR, 최신 오버레이 측정 솔루션 개발

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