FSI 인터내셔널 코리아, ‘지식 세미나’ 개최

[산업일보]
글로벌 반도체 장비 제조 업체인 FSI 인터내셔널(사장 송호성, http://www.fsi-intl.com)은 오는 11월6일(목요일) 서울 역삼동 리츠칼튼 호텔 에서 다양한 사업 파트너들과 고객사들을 대상으로 '새로운 세정기술을 응용한 차세대 디바이스 구현'이란 주제로 지식 세미나를 개최한다.

이번 세미나는 세정 분야 의 신기술 발표 및 시연을 통한 테스트 기회 제공 등 다양한 형식으로 진행된다. 1부 세션에서는 아리조나 대학교 스리니 라가방(Srini Raghaven) 교수가 하이케이/메탈 게이트(High-k/Metal Gate)와 시제(SiGe) 공정, 자기정렬 기술과 같은 일반적인 집적회로(IC) 소자 신소재의 등장 및 웨이퍼 세정 기술에 관한 발표가 있을 예정이다.

이어서 2부 세션는 FSI인터내셔널과 국내 IC 제조업체 세정분야의 전문가에 의한 구리/로우케이(Low-K) 세정, 시제(SiGe) 호환 닙트 살리시드(NiPt salicide) 공정, 하이케이/메탈게이트(High-K/ Metal gate) 소제, 세척 공정 기법의 향상화, 스핀온 디엘렉트릭트(Spin–on Dielectric), 코 스트립(Co Strip), FSI의 비피알(ViPR™) 기술 및 FSI만의 새로운 매엽 세정기술에 대한 강연으로 구성된다.

FSI 인터내셔널 코리아 송호성 사장은 “지금처럼 경기가 어려운 상황에서 비용을 줄이거나, 보다 나은 제품을 공급하거나 아니면 차별화된 서비스를 제공하는 등 다양한 성장 전략을 수립하고 실행하기 위해 모든 기업이 고민하고 있다. 이에 FSI는 IC 제조사들의 수익과 새로운 기술 도전에 전략적인 도움을 드리고자 이번 지식 세미나를 마련했다”며 취지를 밝혔다.

이번 지식 세미나에 대한 보다 자세한 내용은 FSI 홈페이지(www.fsi-intl.com/kssasia08)에서 확인할 수 있으며, IC 제조사와 FSI 파트너사는 웹사이트를 통해 세미나 등록이 가능하다.

한편, 국내외 다양한 레퍼런스를 확보하고 있는 FSI 인터내셔널은 아시아의 주요 도시를 대상으로 지속적인 지식 세미나를 개최하여 고객사 뿐만 아니라 파트너사 대상으로 FSI 인터내셔널의 차별화된 정보 지식을 공유할 계획이다. 이 행사는 아시아는 물론 유럽과 미국 전역에서 수년 동안 진행해온 FSI 인터내셔널만의 노하우가 집약된 정보 공유 프로그램 중에 하나다.