기계연, 반도체 공정용 나노미터급 임프린팅 장비 개발 반도체 등 나노 부품의 대량 생산을 위한 핵심 장비가 국내 연구진에 의해 개발됐다. 한국기계연구원(원장 박화영) 지능형 정밀기계연구본부 이재종 박사팀은 과학기술부의 21세기 프론티어 연구개발사업의 일환으로 추진중인 나노메카트로닉스 기술개발사업단 지원 하에 '나노 임프린팅 장비'를 개발했다고 밝혔다. 이 박사팀은 기존 반도체 제작 장비가 가지고 있는 회절한계를 극복하고, 반도체공정에 적용할 수 있는 선폭 70nm 이하의 패턴을 제작할 수 있는 나노 임프린팅 장비를 개발했다고 말했다. 나노 임프린팅 기술이란 접촉 방식으로 나노미터 크기의 패턴을 웨이퍼 등에 인쇄하는 프린팅기술이다. 나노 임프린팅 장비의 핵심기술은 웨이퍼 형상에 따라 서로 다르게 힘을 가할 수 있는 특징을 가지고 있으며, 상온에서 미소한 압력으로 나노 임프린팅이 가능하다는 것이다.개발팀은 이 장비의 개발과 함께 선폭 20nm의 스탬프 제작 공정기술을 개발했으며, 4인치 웨이퍼를 기준으로 선폭 70nm 이하의 나노 임프린팅이 가능한 나노 임프린팅 장비의 시장 진출이 가능할 것으로 기대하고 있다.개발책임자인 이 박사는 나노부품의 대량 생산을 위한 핵심 장비기술의 확보로 기능성 광학부품(그레이팅 렌즈, 광학필터 등), 나노센서 및 나노구조물을 갖는 나노부품 제작분야에 파급효과가 매우 클 것이라고 설명했다. 덧붙여 본격적인 나노 임프린팅 장비 실용화를 선도하고, 세계시장 선점에 유리한 위치를 확보할 수 있는 초석을 마련했다고 평가했다.나노 임프린팅 장비 시장은 '09년에 약 4,600억원 이상으로 추정되고 있다. 미디어다아라 김민수 기자(kms@daara.co.kr)

기계연, 반도체 공정용 나노미터급 임프린팅 장비 개발

기사입력 2005-05-23 11:06:00

[산업일보]
반도체 등 나노 부품의 대량 생산을 위한 핵심 장비가 국내 연구진에 의해 개발됐다.

한국기계연구원(원장 박화영) 지능형 정밀기계연구본부 이재종 박사팀은 과학기술부의 21세기 프론티어 연구개발사업의 일환으로 추진중인 나노메카트로닉스 기술개발사업단 지원 하에 '나노 임프린팅 장비'를 개발했다고 밝혔다.

이 박사팀은 "기존 반도체 제작 장비가 가지고 있는 회절한계를 극복하고, 반도체공정에 적용할 수 있는 선폭 70nm 이하의 패턴을 제작할 수 있는 나노 임프린팅 장비를 개발했다"고 말했다.

나노 임프린팅 기술이란 접촉 방식으로 나노미터 크기의 패턴을 웨이퍼 등에 인쇄하는 프린팅기술이다.

나노 임프린팅 장비의 핵심기술은 웨이퍼 형상에 따라 서로 다르게 힘을 가할 수 있는 특징을 가지고 있으며, 상온에서 미소한 압력으로 나노 임프린팅이 가능하다는 것이다.

개발팀은 이 장비의 개발과 함께 선폭 20nm의 스탬프 제작 공정기술을 개발했으며, 4인치 웨이퍼를 기준으로 선폭 70nm 이하의 나노 임프린팅이 가능한 나노 임프린팅 장비의 시장 진출이 가능할 것으로 기대하고 있다.

개발책임자인 이 박사는 "나노부품의 대량 생산을 위한 핵심 장비기술의 확보로 기능성 광학부품(그레이팅 렌즈, 광학필터 등), 나노센서 및 나노구조물을 갖는 나노부품 제작분야에 파급효과가 매우 클 것"이라고 설명했다.

덧붙여 "본격적인 나노 임프린팅 장비 실용화를 선도하고, 세계시장 선점에 유리한 위치를 확보할 수 있는 초석을 마련했다"고 평가했다.

나노 임프린팅 장비 시장은 '09년에 약 4,600억원 이상으로 추정되고 있다.

미디어다아라 김민수 기자(kms@daara.co.kr)

뒤로 기사목록

산업일보 영상뉴스 모아보기

산업일보 페이스북 바로가기

산업일보 kidd@kidd.co.kr

이 기자의 다른기사 보기 >